凈化(hua)車(che)間主要之作(zuo)用(yong)在(zai)於(yu)控(kong)制產(chan)品(如矽芯片等)所(suo)接觸(chu)的大氣(qi)的潔凈度以及溫(wen)濕(shi)度,使(shi)產(chan)品能在(zai)壹(yi)個(ge)良(liang)好之(zhi)環境空(kong)間(jian)中生(sheng)產(chan)、制(zhi)造,此空(kong)間(jian)我(wo)們(men)稱之(zhi)為凈化(hua)車(che)間。按(an)照(zhao)慣(guan)例,無(wu)塵凈化(hua)級(ji)別(bie)主(zhu)要是(shi)根據(ju)每(mei)立(li)方(fang)米(mi)空(kong)氣(qi)中粒子直徑大於(yu)劃分標(biao)準的粒子數(shu)量來(lai)規(gui)定(ding)。也(ye)就是(shi)說(shuo)所(suo)謂無(wu)塵並(bing)非100%沒(mei)有(you)壹(yi)點(dian)灰(hui)塵,而是(shi)控(kong)制(zhi)在(zai)壹(yi)個(ge)非常(chang)微(wei)量的單(dan)位(wei)上。當(dang)然這個標(biao)準中符(fu)合(he)灰塵標(biao)準的顆粒相對於(yu)我(wo)們(men)常(chang)見的灰塵已經是(shi)小(xiao)的微(wei)乎(hu)其微(wei),但是(shi)對於(yu)光(guang)學構(gou)造(zao)而言,哪(na)怕是(shi)壹(yi)點(dian)點(dian)的灰塵都會(hui)產(chan)生(sheng)非常(chang)大的負(fu)面(mian)影響,所(suo)以在(zai)光(guang)學構(gou)造(zao)產(chan)品的生(sheng)產(chan)上,凈化(hua)車(che)間無(wu)塵是(shi)必(bi)然(ran)的要求。
凈化(hua)車(che)間每(mei)立(li)方(fang)米(mi)將小(xiao)於(yu)0.3微(wei)米粒徑的微(wei)塵數(shu)量控(kong)制在(zai)3500個(ge)以下,就達到(dao)了無(wu)塵標(biao)準的*。目前(qian)凈化(hua)車(che)間應(ying)用在(zai)芯片級(ji)生(sheng)產(chan)加(jia)工的無(wu)塵標(biao)準對於(yu)灰(hui)塵的要求高(gao)於(yu)*,這樣的高(gao)標(biao)主(zhu)要被(bei)應(ying)用在(zai)壹(yi)些(xie)等(deng)級(ji)較(jiao)高(gao)芯片生(sheng)產(chan)上。5μm及(ji)以(yi)下的微(wei)塵數(shu)量被(bei)嚴(yan)格控(kong)制(zhi)在(zai)每(mei)立(li)方(fang)米(mi)1000個以內,這也(ye)就是(shi)業(ye)內俗稱的1K級(ji)別(bie)。
為(wei)了保持(chi)凈化(hua)車(che)間內的潔凈度,控制人(ren)員(yuan)人(ren)數(shu)是(shi)必(bi)要的。在(zai)考慮靜(jing)電前(qian)提下(xia),對人(ren)員(yuan)服飾等(deng)也(ye)有(you)嚴(yan)格管理方(fang)式(shi)。
1.凈化(hua)工程潔(jie)凈服(fu)上身和(he)下(xia)身宜(yi)分離,穿(chuan)著時(shi)要求,上衣(yi)必須(xu)放(fang)在(zai)下(xia)身裏(li)。
2.穿(chuan)著的布料要求防靜(jing)電,潔(jie)凈室(shi)內相對濕度較低。防靜(jing)電衣(yi)料可(ke)以將(jiang)微(wei)粒子附著率(lv)降到(dao)90%。
3.根據(ju)企(qi)業自身需要,潔凈等(deng)級(ji)高(gao)的潔凈室(shi)會(hui)用到(dao)披肩帽(mao),其下擺(bai)應(ying)放(fang)在(zai)上衣(yi)之內。
4.有(you)些(xie)手(shou)套會(hui)有(you)滑(hua)石粉,進(jin)入(ru)室(shi)內前必(bi)須將(jiang)滑(hua)石粉去(qu)除。
5.新買(mai)的潔凈服(fu)壹(yi)定(ding)要先清洗之(zhi)後再穿(chuan),有(you)條(tiao)件(jian)的*用無(wu)塵水洗滌(di)。
6.為了保證凈化(hua)工程凈化(hua)效果(guo),1-2個星(xing)期(qi)必(bi)須(xu)清洗壹(yi)次(ci)潔凈服(fu),整(zheng)個(ge)過程要在(zai)潔(jie)凈區(qu)進(jin)行,避(bi)免依附微(wei)粒子。